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铜基底石墨烯

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铜基底石墨烯

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使用铜箔纯度为 99.95%， 厚度 50μm。 使用 CVD 法在铜基表面沉积石墨烯薄膜， 可实现单层、 双层、 多层等高质量石墨烯制备。

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使用铜箔纯度为 99.95%， 厚度 50μm。 使用 CVD 法在铜基表面沉积石墨烯薄膜， 可实现单层、 双层、 多层等高质量石墨烯制备。

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